1. 引言

在半導體和液晶顯示器（LCD/OLED）制造過程中，精密溫控是影響成膜質量、蝕刻精度及器件可靠性的關鍵因素。日本SHINNETSU（新熱工業）憑借其先進的加熱器技術，為高精度半導體和液晶制造設備提供高效、穩定的熱源解決方案。其產品廣泛應用于化學氣相沉積（CVD）、物理氣相沉積（PVD）、光刻膠烘烤等核心工藝，滿足從成熟制程到先進封裝（如2nm以下制程）的嚴苛需求。

2. SHINNETSU加熱器的核心技術特點

2.1 材料與結構優化

SHINNETSU加熱器采用高純度氧化鎂（MgO）絕緣材料與特種合金電阻絲（如鎳鉻或鐵鉻鋁）結合，確保高熱傳導效率及長期穩定性。根據應用場景的不同，提供多種結構設計：

• 種子加熱器（Seed Heater）：適用于高均勻性加熱，如晶圓級溫度控制。

• 細徑種子加熱器：用于微區精準加熱，支持高密度集成工藝。

• 卡特里奇加熱器（Cartridge Heater）：模塊化設計，便于快速更換與維護。

2.2 電氣性能與安全性

• 直接接觸式加熱：通過高絕緣性設計（耐壓≥1500V），加熱器可直接作用于半導體晶圓或液晶基板，避免間接傳熱導致的能量損耗。

• 抗電磁干擾（EMI）：優化電阻絲排布，減少磁場對敏感工藝（如離子注入）的影響。

2.3 耐環境與長壽命設計

• 耐腐蝕性：采用鈦（Ti）或表面陶瓷涂層，耐受等離子體、鹵素氣體（如Cl?、F?）及酸性環境，適用于刻蝕和清洗設備。

• 抗氧化與抗震：發熱體密封結構防止氧化，機械強度滿足半導體設備的高頻振動要求（如搬運機器人應用）。

2.4 高精度溫控能力

• 溫度均勻性：部分型號可實現±0.1℃的控溫精度，確保大面積基板（如G8以上液晶面板）的熱分布一致性。

• 快速響應：低熱容設計縮短升降溫時間，提升生產效率。

3. 主要應用場景

3.1 半導體制造

• 成膜工藝：CVD/PVD設備的基板加熱，影響薄膜厚度與結晶質量。

• 熱處理工藝：擴散爐、退火爐中的晶圓加熱，優化摻雜均勻性。

• 先進封裝：3D IC堆疊中的局部微加熱（<100μm區域），減少熱應力導致的翹曲。

3.2 液晶顯示（LCD/OLED）制造

• 陣列（Array）制程：玻璃基板上的薄膜晶體管（TFT）熱處理，提升電子遷移率。

• 蒸鍍與封裝：OLED蒸鍍機的加熱源，確保有機材料均勻沉積。

3.3 其他工業應用

• 真空設備：如分子泵、鍍膜機的配套加熱。

• 實驗室儀器：精密恒溫槽、反應釜加熱等。

4. 典型產品與技術創新

5. 行業趨勢與SHINNETSU的競爭力

隨著半導體工藝向更小節點（如GAA晶體管）和三維集成發展，對加熱器的精度與可靠性要求日益嚴苛。SHINNETSU通過以下技術持續：

• 材料創新：開發超低熱膨脹系數（CTE）復合材料，匹配硅晶圓的熱變形。

• 智能化集成：內置溫度傳感器與IoT接口，實現實時監控與預測性維護。

6. 結論

SHINNETSU的半導體?液晶用加熱器以高可靠性、精準控溫和環境適應性為核心優勢，成為制造設備的熱管理方案。其技術不僅滿足當前產業需求，更通過持續研發推動未來工藝的突破，為半導體和顯示行業的精密制造提供關鍵支撐。